模擬光束整形(Beaming Shaping)以獲得均勻強度及相位之目標光場

計畫名稱:模擬光束整形(Beaming Shaping)以獲得均勻強度及相位之目標光場

所屬單位:光電所

研究團隊:顯示光學實驗室

計畫主持人:林晃巖

研究人員:林家鴻

資源需求:Gnu scientific library, FFTW, IMSL, HDF5

使用期間:2007/09~

研究主題:
模擬光束整形(Beaming Shaping)以獲得均勻強度及相位之目標光場

研究內容概述:
本團隊所進行的研究工作是將雷射光之圓形高斯光場強度分佈利用繞射光學元件,將之整形為一擴大方形的均勻場強度分佈,且亦將其相位調製為均勻分布。在設計的流程中,元件場與繞射場之關係必須由傅立葉轉換求得,所採用的設計方法為模擬退火演算法,它的好處是可以設計出比較好比較符合我們需求的元件,然而其最大的缺點在於需要非常大量的遞迴數。當取樣點數大時,所需計算之矩陣將以平方之速度跟著變大;若考慮上述調製相位的計算部分,由於需要極精密的解析度,因此,所以取樣點數必須極大,如此一來,其單一矩陣所要佔用之記憶體就已經不是個人電腦所能負荷(詳見所附研究工作詳述),故必須有大型運算主機來幫助計算所欲求之資訊。

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